微空气桥隔离的InGaP/GaAsSb/GaAs双异质结晶体管
以p<”->-GaAsSb作为基区材料,利用微空气桥隔离工艺制作了NPN InGaP/GaAsSb/GaAs双异质结晶体管(DHBT:Double Heterojunction Bipolar Transistor).测量结果显示,该晶体管的be结正向开启电压(turn-on voltage)仅为0.76V.
开启电压 微空气桥隔离 双异质结晶体管 湿法腐蚀工艺
郑丽萍 严北平 孙海锋 刘新宇 和致经 吴德馨
中国科学院微电子中心(北京) 香港大学电子电气工程系(香港)
国内会议
厦门
中文
284-287
2002-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)