光瞳滤波提高点线图形光刻分辨率研究
为进一步提高部分相干投影成像系统的光刻分辨率和焦深,详细研究了光瞳滤波的基本理论,给出数学模型,进行模拟计算,取得计算结果和实验结果.理论分析和实验结果表明,光瞳滤波能显著提高投影成像系统光刻分辨率和焦深,是一种比较有效提高光刻分辨率的波前工程技术.
光瞳滤波 投影成像光刻系统 光刻分辨率 数学模型 模拟计算
陈旭南 石建平 罗先刚 康西巧
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(成都)
国内会议
厦门
中文
240-243
2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）