Ge/Si多层膜的低角X射线衍射研究
用磁控溅射生长了5周期的Ge/Si多层膜和Ge<,x>Si<,1-x>单层膜,用计算机控制的衍射仪(CuK□辐射)测量了X射线衍射曲线,在Ge/Si多层膜衍射的布喇格衍射峰两侧发现了一系列次级衍射峰,在单层膜样品的低角X射线衍射中也发现了一系列小峰,我们对此现象进行了深入地探讨,并利用带折射修正的布喇格衍射定律和薄膜光学现象,对低角X射线衍射谱中出现的一系列现象进行了解释,并计算出了Ge/Si多层膜的周期厚度和周期中不同材料间的配比率及Ge<,x>Si<,1-x>单层膜的厚度.
Ge-Si多层膜 低角X射线衍射 配比率SAXD 配比率
王勇 杨宏卫 周卫 张怀若 杨宇
云南大学材料科学与工程系(云南昆明)
国内会议
厦门
中文
1975-1978
2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）