立方相GaN基LED的电化学C-V测量
作者们用电化学C-V的方法测量了MOCVD生长的双异质结结构绿光LED。采用稀盐酸腐蚀液,加正向偏压,边腐蚀边测量。实验完毕,用SEM观察表面和截面情况,发现被腐蚀区域的P-GaN/InGaN/N-GaN层已经与GaAs衬底脱离,并在GaAs衬底上腐蚀出坑。从GaN的结构特性分析,作者们认为,GaN中的层错堆积形成晶界作为导电通道,加快了晶界附近的GaN腐蚀速度。
GaN基 LED 结构分析 C-V测量方法
李顺峰 杨辉 徐大鹏 张书明
中科院半导体研究所国家光电子工艺中心
国内会议
广西北海
中文
130~132
2000-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)