KrF准分子激光缩小投影光刻实验系统研制
深紫外KrF准分子激光光刻技术对于提高光刻分辨率,发展光启程技术极限,具有重要的意义。微细加工光学技术国家重点实验室研制了一套KrF准分子激光缩小投影光刻实验系统。这套实验系统的研制成功为开展准分子激光光刻技术和准分子激光与相移掩模相结合的光刻技术的研究创造了条件,对研制的这套实验系系统的进行介绍。
准分子激光器 掩模 光刻物镜 基片
侯德胜 冯伯儒 林大键
科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室
国内会议
长沙
中文
331~333
1999-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)