会议专题

重掺砷硅初底外延工艺

重掺砷硅初底批量外延生产中存在着均匀性、一致性和重复性差等问题,该文对其主要原因---自掺杂进行了分析,并提出了抑制自掺杂的工艺,从而大大提高了批量生产中的工艺稳定性和成品率。

重掺砷 硅 初底 外延 工艺

薛宏伟 夏明颖 赵丽霞 田中元 陈秉克 吴福民 魏毓峰

工业部十三所

国内会议

1998年全国半导体硅材料学术会议

上海

中文

138~141

1998-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)