直拉硅中氮的行为

摘要：

该文研究了硅中氮氧复合物、氮－新施主、氮对热施主（ＴＤ）、新施主（ＮＤ）和氧沉淀的影响，并对实验结果进行了讨论。

关键词： 直拉硅 氮氧复合物 氧沉淀

作者: 刘培东 黄笑容

作者单位: 大学硅材料科学国家重点实验室(杭州) 半导体技术责任有限公司(杭州)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 51～54

在线出版日期: 1999-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）