真空镀膜技术的最新进展

摘要：

该文介绍了旋转磁控溅身和电弧离子镀技术的最新进展。论述了旋转圆柱磁控溅射靶Ｃ－Ｍａｇ、孪生磁控溅射靶Ｔｗｉｎ－Ｍａｇ和旋转磁控柱状弧的特性及其应用。该文还对ＬＯＷ－ｅ膜和ＩＴＯ膜的制备工艺和设备进行了分析研究，并指出今后发展方向。

关键词： 真空镀膜 C-Mag Twin-Mag柱状弧源 LOW-e膜 ITO膜

作者: 姜燮昌

作者单位: 真空泵厂

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国薄膜学术讨论会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 20～27

在线出版日期: 1999-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）