二氧化硅微细颗粒表面清净、纯化及应用
该文在擦洗、脱泥工序除去表面污染铁质和泥份的基础上,采用填充柱式浮法设备,结果有效的捕收、抑制等药剂,可将二氧化硅颗粒中Fe<,2>O<,3>含量从0.081℅下降到0.01℅-0.023℅,由于该方法能显著除去铁质,同时提高二氧化硅的纯度,因而可使得二氧化硅得到更好的应用。
杂质去除 表面处理 纯化工艺 二氧化硅 微细颗粒 浮法设备
丁一刚 王慧龙 吴元欣 李定或
华中理工大学材料科学与工程学院(武汉) 武汉化学学院化工系(武汉)
国内会议
上海
中文
80~82
2000-09-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)