会议专题

二氧化硅微细颗粒表面清净、纯化及应用

该文在擦洗、脱泥工序除去表面污染铁质和泥份的基础上,采用填充柱式浮法设备,结果有效的捕收、抑制等药剂,可将二氧化硅颗粒中Fe<,2>O<,3>含量从0.081℅下降到0.01℅-0.023℅,由于该方法能显著除去铁质,同时提高二氧化硅的纯度,因而可使得二氧化硅得到更好的应用。

杂质去除 表面处理 纯化工艺 二氧化硅 微细颗粒 浮法设备

丁一刚 王慧龙 吴元欣 李定或

华中理工大学材料科学与工程学院(武汉) 武汉化学学院化工系(武汉)

国内会议

”2000国际表面工程与防腐蚀技术研讨会

上海

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80~82

2000-09-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)