GaAs微孔阵列的复制加工

摘要：

以“金字塔”状的锥体阵列作为电化学模板，利用约束刻剂层技术对半导体GaAs进行加工刻蚀。成功地复制出微孔阵列，并且其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合的很好。

关键词： 约束刻蚀剂层技术 微加工 微孔阵列

作者: 黄海苟 夏善红 孙立宁

作者单位: 厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室,化学系,物理化学研究所 中国科学院北京电子研究所,传感技术国家重点实验室 哈尔滨工业大学机器人研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第一届全国纳米技术与应用学术会议

会议地点: 厦门

会议语种:中文

页码: 250～253

在线出版日期: 2000-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）