火焰水解淀积SiO<,2>膜的退火研究

摘要：

本文采用火焰水解法在Si衬底上淀积了用于光波导下包层材料的SiO<,2>膜,然后将其放入高温炉在空气中进行不同温度的退火处理.我们利用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射仪(XRD)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对SiO<,2>膜进行了测试分析.当退火温度达到1400℃时,SiO<,2>膜致密均匀,适合用作波导的下包层.

关键词： 火焰水解法 光波导 二氧化硅 退火 光通信

作者: 张乐天 王昕 吴远大 邢华 李爱武 郑伟 张玉书

作者单位: 吉林大学集成光电子国家重点实验室(长春) 吉林大学文学院(长春)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国光学学术会议

会议地点: 四川绵阳

会议语种:中文

页码: 239-243

在线出版日期: 2002-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）