MePIIID技术对滚珠表面改性过程的数值模拟

摘要：

本文采用Particle-in-cell(PIC)方法对轴承滚珠的离子注入过程进行了数值模拟,并对其表面的均匀性进行了研究,获得了注入剂量的分布曲线以及真空室的电势分布随时间的变化曲线.研究结果表明,金属等离子体密度分布在一定模拟时间后达到稳定状态,基体偏压和等离子体密度的变化会引起电势分布的变化.

关键词： PIC 滚珠 均匀性 表面改性 数值模拟 等离子体注入

作者: 汤宝寅 于永澔 王浪平 甘孔银 王小峰 王宇航 刘洪喜

作者单位: 哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国特种连接技术交流会

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 216-220

在线出版日期: 2002-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）