离子束辅助沉积(Ti,Al)N硬质涂层

摘要：

离子束辅助沉积(IBAD)结合了PVD,沉积效率提高,改善了涂层和基体界面间的结合力,改进了离子注入深度浅的缺点,IBAD沉积过程中,会出现离子注入过程中粒子、沉积原子碰撞及溅射等物理现象以及沉积原子和离子化学反应等现象.本文研究的目的是寻找最佳工艺参数,以得到最佳涂层硬度和表面光洁度增加涂层的摩擦学性能.

关键词： 离子束辅助沉积 硬质涂层 工艺参数 金属表面处理

作者: 李曙光 高桥康夫

作者单位: 首都航天机械公司;大阪大学接合科学研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第二届表面工程技术产业化学术交流会

会议地点: 太原

会议语种:中文

页码: 169-173

在线出版日期: 2002-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）