Mevva源离子注入机大批量注入均匀性研究

摘要：

Mevva离子源具有束流强、离子种类多、引出电压高以及多孔大面积引出的特点,Mevva强流金属离子注入被誉为新一代的离子注入技术.本文简介了Mevva ⅡA-H源离子注入机研究了几种不同情况下的注入均匀性.

关键词： 离子注入 Mevva离子源 离子注入机 注入均匀性

作者: 吴先映 张孝吉 张荟星 张胜基 李强

作者单位: 北京师范大学低能核物理研究所,射线束技术与材料改性教育部重点实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 第二届表面工程技术产业化学术交流会

会议地点: 太原

会议语种:中文

页码: 82-85

在线出版日期: 2002-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）