(100)硅片的各向异性腐蚀及微反射镜的制作
在(100)硅片上进行各向异性腐蚀时,能暴露垂直的”100”面、倾角为45°的”100”面和倾角54°的”111”面,”111”面是沿着<110>方向形成的,”100”和”110”面是沿着<100>方向形成的.用纯KOH水溶液和KOH+IPA(异丙醇)混合水溶液在(100)硅片上沿<100>方向腐蚀所暴露的平面是不同的,使用纯KOH水溶液总是能暴露与衬底垂直的”100”面,在使用KOH+IPA混合溶液时,当KOH的浓度较低时,暴露与衬底倾角是45°的”110”面,当KOH溶度高于50﹪时,暴露出光滑且与衬底垂直的”100”面.根据这一结论,使用KOH浓度高于50﹪的KOH+IPA混合水溶液,在(100)硅片上沿着<100>方向制作出微反射镜,微镜的表面粗糙度低于10nm.
KOH溶液 微反射镜 表面粗糙度 化学腐蚀 (100)硅片
董玮 陈维友 刘彩霞 张歆东 贾翠萍 张龙 纪平 潘建旋 徐宝琨
吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点实验室(长春)
国内会议
四川绵阳
中文
151-154
2002-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）