Fe<,3>O<,4>多晶薄膜隧道磁电阻效应
我们用磁控溅射的方法,用Fe<,2>O<,3>靶溅射制备了Fe<,3>O<,4>多晶薄膜,在室温下获得了大约为-1.2﹪的磁电阻.测量了从室温到液氮温度(78K)电阻随温度的变化关系,没有发现Verway转变,电阻与exp(T-1/2)成正比,这表明磁电阻来源于Fe<,3>O<,4>晶粒间通过晶界的自旋相关的电子隧穿.
磁控溅射 多晶薄膜 Fe<,3>O<,4> 隧道磁电阻效应
蒋晓龙 高俊 王飞 徐庆宇 倪刚 张凤鸣 都有为
南京大学固体微结构实验室(南京)
国内会议
长沙
中文
59-60
2002-11-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)