利用场发射显微镜研究碳化钨场发射

摘要：

本文在超高真空环境下通过高温处理在金属钨针尖上形成了碳化钨薄膜,对其场发射特性进行了测量,并估算了其逸出功.

关键词： 碳化钨薄膜 场发射 逸出功 场发射显微镜

作者: 孙建平 张兆祥 侯士敏 张耿民 赵兴钰 刘惟敏 薛增泉

作者单位: 北京大学电子学系

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届中国场致发射与真空微电子学学术会议

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 33-35

在线出版日期: 2001-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）