射频功率对ICPECVD制备类金刚石薄膜过程的影响

摘要：

采用感应耦合等离子体增强化学气相沉积(ICPECVD)成功地制备了硬质类金刚石薄膜.对沉积获得的类金刚石膜进行努氏显微硬度测量及傅立叶转换红外光谱(FTIR)和喇曼谱(Raman)测试、扫描电子显微镜(SEM)以及原子力显微镜(AFM)观察与分析.分析结果表明射频功率对类金刚石膜沉积过程及薄膜性质都有显著影响.

关键词： 感应耦合等离子体 化学气相沉积 类金刚石薄膜 射频功率

作者: 俞世吉 马腾才

作者单位: 中国科学院电子学研究所(北京) 大连理工大学三束材料改性国家重点联合实验室(大连)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国电子学会真空电子学分会第七届真空技术应用学术会议

会议地点: 宁波

会议语种:中文

页码: 72-74

在线出版日期: 2002-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）