电沉积参数对Co-Ni合金镀层的影响

摘要：

为了研究糖精的含量以及电沉积参数在大范围变化时,对镀层的外观质量、内应力、脆性的影响,本文采用赫尔槽方法进行了研究.发现pH值在4.0-5.0范围内可以获得光亮且应力较小的镀层,糖精的添加能够明显的降低镀层的拉应力.同时X-射线衍射测试结果表明糖精的加入抑制了合金在110晶面的生长,合金表现出很强的100晶面取向.

关键词： 钴镍合金 糖精 pH值 赫尔槽 电沉积 镀层

作者: 杜明华 李宁 武刚 线恒泽

作者单位: 哈尔滨工业大学应用化学系(哈尔滨)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2002全国电子电镀学术年会

会议地点: 深圳

会议语种:中文

页码: 52-55

在线出版日期: 2002-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）