紫外光-臭氧处理法在砷化镓器件中的应用

摘要：

本文应用紫外光—臭氧处理方法对砷化镓晶片表面进行了氧化钝化处理,并应用于场效应晶体管的制作工艺中,对比测试了器件性能参数.

关键词： 半导体器件 砷化镓晶片 紫外光臭氧处理 氧化钝化处理

作者: 任殿胜 王为 李雨辰 严如岳

作者单位: 天津大学化工学院(天津);信息产业部电子第四十六研究所(天津) 天津大学化工学院(天津) 信息产业部电子第四十六研究所(天津)

会议类型: 国内会议

会议名称: 化学与物理电源学术年会

会议地点: 广东惠州

会议语种:中文

页码: 331-332

在线出版日期: 2002-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）