类金刚石薄膜阴极阵列及样管的制备

摘要：

真空磁过滤弧沉积(FAD)的方法制备的类金刚石(DLC)薄膜具有良好的场发射性能.通过离子束技术和微细加工技术可以实现DLC薄膜的图形化并能大大提高薄膜的场发射性能.我们利用图形化的DLC薄膜作为阴极用于直接封装场发射显示器(FED)样管,并获得了成功.

关键词： 场发射 类金刚石薄膜 场发射显示器 阴极材料 真空磁过滤弧沉积

作者: 冯涛 茅东升 李炜 张福民 柳襄怀 王曦 李琼 徐静芳 诸玉坤

作者单位: 中国科学院上海冶金研究所离子束开放研究实验室(上海) 华东师范大学电子科学与技术系(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届中国场致发射与真空微电子学学术会议

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 51-54

在线出版日期: 2001-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）