场致发射中离子轰击问题的研究
在场致发射器件中,发射电流的稳定性是衡量器件质量的一个重要因素.由于在器件中存在残余气体,从场致发射体发出的电子与气体分子相互作用,电离产生离子.这些正离子在电场力的作用下,回轰发射体表面,使发射体尖端形状受到损伤,改变了电场分布,最后造成发射电流的衰减.本文利用一套计算机模拟程序,分析了电子束电离产生离子,以及离子回轰发射体表面造成阴极损伤的过程.得到了发射电流衰减与残余气体压强,发射体工作时间的关系.这些结论为更准确地分析发射体的发射特性提供了大量有用信息.
发射体 离子回轰 阴极损伤 发射电流衰减 场致发射
李俊涛 雷威 王保平 尹涵春
东南大学电子工程系(南京)
国内会议
西安
中文
40-44
2001-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）