用XPS研究不同方法处理的砷化镓表面

摘要：

本文用X射线光电子能谱分析技术(XPS)研究了砷化镓晶片自然氧化层的化学组成和化学计量比,研究了氧化处理技术对砷化镓表面的影响.

关键词： 砷化镓 化合物半导体 X线光电子能谱 氧化层

作者: 任殿胜 王为 李雨辰 严如岳

作者单位: 天津大学化工学院(天津);信息产业部电子第四十六研究所(天津) 天津大学化工学院(天津) 信息产业部电子第四十六研究所(天津)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 长春

会议语种:中文

页码: 79-79

在线出版日期: 2002-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）