会议专题

快速热处理对应变InGaAs/GaAs单量子阱激光二极管电子发射和DX中心的影响

本文主要研究了分子束外延(MBE)生长的应变In<,0.2>Ge<,0.8>As/GaAs折射率梯度变化,异质结单量子阱激光二极管的快速热处理(RTA)效应.

单量子阱激光二极管 快速热处理 分子束外延生长 折射率梯度

张砚华 卢励吾

中国科学院半导体研究所半导体材料科学开放实验室(北京)

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2002-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)