用相移掩模技术制作光纤光栅方法

摘要：

本文简要介绍一种用无铬相移掩模技术制作光纤光栅的原理和方法.系统中采用可移动反射镜使激光束沿排模-光纤组合体扫描,逐次曝光光纤.该方法既便于调整系统,增强曝光能量,反可制作长尺寸光纤光栅.

关键词： 相移掩模 干涉曝光 光纤光栅

作者: 冯伯儒 张锦 宗德蓉 蒋世磊

作者单位: 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(成都) 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(成都);四川大学物理系(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2002年全国光电技术学术交流会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 561-562

在线出版日期: 2002-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）