共形ZnS整流罩制备方法
共形光学的应用将提高系统的特点,但是需要非传统的设计、制造、检测以及装配等技术的发展.本文介绍一种化学汽相沉积(CVD)制备ZnS共形整流罩的方法.将ZnS沉积在CVD沉积腔中的”阳模”上,通过整流罩内表面精密复制得到近似形状样品,而无须内表面加工,然后用金刚石车床进行外表面光学加工.文中所描述的制备技术展示了制造与导弹弹体外形共形的空气动力整流罩的可行性.这种整流罩通过显著降低导弹阻力而增强导弹的性能.文中还阐述了ZnS整流罩精密复制中模具材料选择和整流罩从”阳模”顺利脱离的膜层的镀制等关键技术.
共形光学 共形ZnS整流罩 化学汽相沉积 精密复制 阳模
张荣实
航天科工集团第三研究院八三五八研究所(天津)
国内会议
成都
中文
435-439
2002-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）