化学镀技术在薄膜硬磁盘中的应用

摘要：

化学镀技术应用于计算机薄膜硬磁盘的生产，可以大大提高磁盘的存储容量。非磁性的化学镀Ni-P合金沉积在经高精度抛光的铝合金基体上，再经抛光、活化后镀上一层Co-P合金。可得到经济、耐用、高速、高性能的磁记录介质层。该文介绍了薄膜硬磁盘的生产过程。重点讨论了化学前处理、非磁性Ni-P合金底层和Co-P合金磁记录介质层的技术特点与沉积性能。

关键词： 硬磁盘 磁记录介质 化学镀 镍磷合金 钴磷合金

作者: 蒋太祥 吴辉煌

作者单位: 大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国化学镀会议

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 119～122

在线出版日期: 1998-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）