带基板NiTi薄膜的应力状态及微观组织
研究了带基板磁控溅射富钛NiTi薄膜经不同温度晶化后的的微观组织和结构、相变温度及薄膜的应力状态.结果发现:带基板晶态薄膜中存在拉伸残余应力,且随晶化温度降低而增高,这是由于加热和冷却过程中的热应力、晶化和保温过程中的晶化应力和应力松弛效应以及冷却时形成马氏体的相变应力等的综合结果.在较低温度晶化的薄膜中呈现明显的放射状花样组织,这与在压应力场下晶化择优成长有关.
应力 微观组织 NiTi薄膜 磁控溅射
吴廷斌 江伯鸿 漆璿 刘毓舒 王莉 徐东
上海交通大学教育部高温材料及高温测试重点实验室(上海) 上海交通大学教育部微细加工与技术开放实验室(上海)
国内会议
厦门
中文
1421-1424
2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）