STA-APS自组装双层膜的制备及其摩擦特性

摘要：

利用自组装技术及氨基与羧基之间的酰胺化反应,成功地在单晶硅表面制备了3-氨基丙基-三乙氧基硅烷(APS)和硬脂酸(STA)的自组装双层膜.双层膜表面水接触角约98°,ASP单层膜厚约0.5nm,STA单层膜厚约1.7nm.摩擦、磨损性能测试结果表明,STA-APS双层膜具有优异的摩擦特性,摩擦系数约0.06-0.08,在0.5N的载荷下,其抗磨寿命大小10000次;在1N的载荷下,其抗磨寿命也可达到6800多次,有望用作微型机械的润滑和防护材料.

关键词： 自组装双层膜 超薄膜 摩擦磨损性能 单晶硅 微电子机械

作者: 任嗣利 中国科学院力学研究所(北京) 杨生荣 赵亚溥

作者单位: 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室(甘肃兰州) 中国科学院力学研究所(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国摩擦学大会

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 547-550

在线出版日期: 2002-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）