用CVD系统生长金刚石薄膜的实验及装置

摘要：

化学汽相沉积(CVD)是一种近年来兴起的薄膜生长技术,在现代物理科学技术的发展中扮演着重要的角色,掌握其原理与技术对学习近代物理学具有重要意义.我们在参考国外同类实验的基础上,设计研制了适合大学物理教学的CVD实验装置,它具有结构简单、成本低、安全可靠的特点,在过去的教学实践中取得了良好的教学效果.

关键词： 金刚石薄膜 实验装置 化学汽相沉积 薄膜生长 物理实验

作者: 谢二庆 宋长安

作者单位: 兰州大学物理科学与技术学院

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十四届全国原子.原子核物理研讨会暨全国近代物理研究会第七届年会

会议地点: 包头

会议语种:中文

页码: 71-75

在线出版日期: 2002-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）