直流反应溅射制备ZnO:Al透明导电薄膜

摘要：

本文对直流磁控反应溅射法制备ZnO:Al薄膜的工艺作了具体分析,探讨了氧分压、Al含量、溅射功率和靶基距等对ZnO:Al薄膜的电学、光学性能的影响.

关键词： 导电薄膜 磁控溅射法 制备方法 光学性能

作者: 陆峰 徐成海 裴志亮 闻立时

作者单位: 东北大学(沈阳) 中国科学院金属研究所(沈阳)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国真空学会五届三次理事会暨学术会议

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 51-54

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）