微波电子回旋共振筹离子体高速溅射装置的研制

摘要：

研制了一种高速率溅射的ECR等离子体装置。微波经过一段真空波导管，以反常波模式耦合输入共振腔，腔内溅射靶由平面靶和订状靶组成，圆筒状靶后面加了铁环，装置的这种设计方法使常规ECR溅射法在沉积薄膜中经常受到的两个限制一波窗口污染和膜的沉积速率慨得到解决，并且，在2xl0-4的低气压下，金瞩铜膜的沉积速率可达到1200A/min.

关键词： ECR等离子体 高速溅射 双靶 微波窗口

作者: 汪建华 喻宪辉 邱钦崇

作者单位: 化工学院 交通学院 院等离子体物理研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国核学会核聚变与等离子体应用学术讨论会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 147～150

在线出版日期: 1998-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）