ITO靶材在溅射过程中结瘤行为的研究

摘要：

本文报导了ITO靶材溅射时,靶材表面的时效变化和靶材表面结瘤物的组成及其微结构;探讨了结瘤物生成的原因和减缓瘤子生成的方法,对改善ITO膜质有较好的参考价值.

关键词： 结瘤 黑化物 磁控溅射 铟锡氧化物薄膜 铟锡氧化物靶材

作者: 姚吉升 唐三川 陈坚 王玺 周友元 黄军武

作者单位: 长沙矿冶研究院(中国长沙)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国真空学会五届三次理事会暨学术会议

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 47-50

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）