集成电路生产控制中X射线荧光光谱分析的应用

摘要：

本文对超大规模集成电路生产控制中X射线荧光光谱分析的应用做了探讨,并BPSG/SiO<,2>膜层膜厚与成分分析为例介绍了XRF薄膜分析仪在半导体工业设计的应用.

关键词： 集成电路制备 X射线荧光光谱分析 XRF薄膜分析仪

作者: 陶光仪

作者单位: 中国科学院上海硅酸盐研究所(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国X射线荧光光谱分析学术报告会

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 13-13

在线出版日期: 2002-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）