化学复合镀Ni-W-P/Si<,3>N<,4>复合膜工艺的研究
本文采用复合化学镀方法.制备了Ni-W-P/Si<,3>N<,4>复合镀膜;研究了镀液组成及工艺参数对镀层成分和沉积速率的影响;采用X射线衍射(XRD)分析了复合膜表面相结构,并对复合膜的耐蚀性及耐磨性进行了测试分析,试验结果表明,Si<,3>N<,4>纳米颗粒的加入影响了镀层的沉积速率,提高了镀膜的耐磨性,Ni-W-P/Si<,3>N<,4>复合镀膜仍具有与Ni-W-P镀膜相近的优异耐蚀性能.
化学镀 Ni-W-P/Si<,3>N<,4> 复合镀膜 相结构 耐蚀性 耐磨性
杜克勤 高玉周
大连大重自动化工程公司技术开发部 大连海事大学材料及工艺研究所
国内会议
北京
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149-152
2002-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)