氧离子注入机高温靶室的温度分析

摘要：

简述了氧离子注入机高温靶室中对晶片温度的要求，介绍了高温靶室的结构，加热及控温方式，通过建立热平稳模型，分析了高温靶室中的温度特性。

关键词： 氧离子注入机 高温靶室 传导 辐射 晶片温度

作者: 李时俊

作者单位: 产业部电子第48研究所(长沙)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 140～146

在线出版日期: 1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）