辉光放电辅助激光沉积(200)-MgO/Si薄膜的研究
采用辉光放电辅助激光沉积法成功地在Si(100)下衬底上低温制备出(200)取向的MgO薄膜。实验表明,辅助以光放电可以明显地提高沉积速率和降低合成温度。同时,用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和透射电镜(TEM)对薄膜的微观结构进行了分析。
氧化镁 脉冲激光沉积 薄膜
符晓荣 黄继颇 多新中
科学院上海冶金所信息功能材料国家重点实验室(上海)
国内会议
长沙
中文
437~440
1999-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)