磁控溅射氧化钒薄膜的研究
本文讨论了在低温磁控溅射沉积氧化钒薄膜的特性,采用金属钒作为靶材,利用反应磁控溅射工艺制备了氧化钒薄膜,在适当的Ar:O比例条件下,通过改变溅射总压,溅射时间,溅射温度等工艺参数,探索了氧化钒的成膜工艺.并分析了不同工艺条件对薄膜方阻,薄膜电阻温度特性的影响.最后对样品进行了XPS分析,结果表明适当控制溅射氧化钒的工艺条件可以在较低温度下形成VOx,并具有较好的电特性.
氧化钒 溅射制备 XPS分析 薄膜技术
吴志明 蒋亚东 牟宏 谢光忠 王波
电子科技大学信息材料工程学院(四川成都)
国内会议
厦门
中文
1437-1438
2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）