高精度衍射光栅刻划机的最新技术进展

摘要：

采用高精度的衍射光栅刻划机刻划依然是制作高质量母光栅最重要的手段,因此,跟踪世界光栅刻划机的最新技术进展具有重要的现实意义.文中主要对工件台的双重定位技术和分度运动中的间歇式与连续式的技术融合进行了阐述,并指出了衍射光栅刻划机的发展趋势.

关键词： 衍射光栅刻划机 双重定位 间歇式 连续式

作者: 时轮 郝德阜 齐向东

作者单位: 吉林工学院机电学院(长春) 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所(长春)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国仪器仪表学会第三届青年学术会议

会议地点: 沈阳

会议语种:中文

页码: 438-439

在线出版日期: 2001-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）