BN薄膜的ECR CVD制备及结构
氮化硼是一种有着多种型态,多种优异性能和多种应用的Ⅲ-Ⅴ族二元化合物,多年来一直受到很大关注.本文利用微波电子回旋共振化学气相沉积(MW-ECR CVD)系统制备了BN薄膜.XRD结果表明薄膜为h-BN和r-BN的混合相,指标化结果表明r-BN的晶胞常数分别为a<,0>=2.5025埃.c<,0>=10.0177埃.衍射峰强度的相对变化反映了基面的取向.FTIR结果表明,由B-N-B面外弯曲振动峰的位置,薄膜可确定为a-BN,t-BN或h-BN(r-BN).
化学气相沉积 薄膜结构 氮化硼薄膜
张生俊 陈光华 严辉 王波 张德学 宋雪梅
北京工业大学材料科学与工程学院教育部新型功能材料重点实验室(北京)
国内会议
第二届全国金属功能材料第九届全国非晶态材料和物理第三届全国稀土永磁材料联合学术研讨会
北京
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128-131
2001-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）