BCN薄膜的制备及光电性能研究

摘要：

本文采用射频溅射技术,在硅和石墨衬底上制备出六方BCN薄膜,并应用IR、XRD、XPS手段系统地研究了沉积参数对BCN膜生长及结构的影响.也研究了BCN膜的光学、电学、场电子发射及内应力等性能.本文着重报导BCN薄膜的制备及其光、电性能.

关键词： 硼碳氮薄膜 射频溅射 光-电特性

作者: 陈光华 蔡让歧 李英兰 岳金顺 贺德衍 陈光华

作者单位: 兰州大学物理系(兰州) 北京工业大学材料学院(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第二届全国金属功能材料第九届全国非晶态材料和物理第三届全国稀土永磁材料联合学术研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 122-124

在线出版日期: 2001-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）