原位TiN/O”-Sialon材料的低温氧化行为研究

摘要：

采用热分析法研究了原位TiN/O”-Sialon材料在低温下(800～1000℃)的氧化行为.结果表明,在800～1000℃的空气中,TiN氧化为TiN/O”-Sialon不发生氧化，时间足够长,材料转变为原位TiN/O”-Sialon复相材料,材料表面无”保护膜”生成.

关键词： TiN/O”-Sialon 低温氧化 陶瓷复合材料 原位合成材料 热分析法

作者: 杨建 姜涛 薛向欣 谢朋 王文忠

作者单位: 东北大学材料一冶金学院(辽宁沈阳)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国冶金工艺理论学术会议

会议地点: 包头

会议语种:中文

页码: 232-235

在线出版日期: 2001-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）