离子溅射技术对薄膜性能的影响

摘要：

运用离子溅射沉积技术制备光学增透膜,着重研究离子溅射技术对制备的薄膜性能的影响,包括表面形貌、折射率、薄膜弱吸收、薄膜结构等性能,分析离子溅射技术的特点及制备薄膜的局限性.

关键词： 离子溅射 表面形貌 弱吸收 薄膜结构 光学增透膜

作者: 王英剑 易奎 宋永香 李庆国 范正修

作者单位: 中国科学院上海光学精密机械研究所(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十五届全国激光学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 486-488

在线出版日期: 2002-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）