HfO<,2>/SiO<,2>薄膜缺陷及激光损伤特性分析

摘要：

用台阶仪、Normaski和原子力显微镜图貌分析了与HfO<,2>/SiO<,2>薄膜激光损伤密切相关的表面微结构缺陷节瘤、划痕和孔洞等缺陷的形态结构.用脉宽10ns的1064nm激光进行了损伤实验,研究了各种缺陷与激光损伤能流密度的对应关系,以及激光损伤创面的图貌特性,比较了高反、增透和偏振膜激光损伤特性的差异.

关键词： 薄膜缺陷 原子力显微镜 薄膜激光损伤 Nd:YAG激光器 光学薄膜

作者: 胡建平 陈梅 邱服民 马平

作者单位: 成都精密光学工程研究中心(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十五届全国激光学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 469-472

在线出版日期: 2002-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）