离子辅助轰击对激光烧蚀法制备非晶碳膜的影响
离子辅助轰击能有效改善非晶碳膜(a-C)的质量.用脉冲激光(532nm,3.5×10<”8>W/cm<”2>烧蚀石墨靶,同时用Ar<”+>轰击膜面,在Si(100)衬底上沉积a-C膜.用扫描电镜和拉曼光谱对膜结构作了分析.结果表明,在较低气压和较高的射频功率下制备的a-C膜质量较好,同时,激光重复频率对膜生长也是显著影响.
离子辅助轰击 非晶碳 激光烧蚀 激光等离子体 薄膜生长
郭建 杨益民
湘潭大学物理系(湘潭)
国内会议
武汉
中文
465-468
2002-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）