电化学侵蚀条件对多孔硅理化性质影响的实验研究
本文采用荧光光谱仪和原子力显微镜测量了多孔硅的理化性质,得到了初步研究结果.
多孔硅 理化性质 荧光光谱仪 原子力显微镜 电化学浸蚀工艺
黎学明 杨建春
重庆大学化学化工学院(重庆)
国内会议
南京
中文
222-223
2001-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
多孔硅 理化性质 荧光光谱仪 原子力显微镜 电化学浸蚀工艺
黎学明 杨建春
重庆大学化学化工学院(重庆)
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