感应耦合等离子体源制备硬质类金刚石膜的研究

摘要：

本文采用感应耦合等离子体源(ICPS)成功地实现化学气相沉积硬质类金刚石(DLC)膜,并考察了基片负偏压对类金刚石膜沉积过程和薄膜性质的影响.薄膜的微观形貌、显微硬度、沉积速率以及结构成分分析表明感应耦合等离子体源适于制备硬质类金刚石膜,并且在相对较低的基片负偏压条件就可以获得高硬度的类金刚石膜.基片负偏压对类金刚石膜化学气相沉积过程和薄膜性质都有显著影响.

关键词： 感应耦合等离子体源 类金刚石膜 化学气相沉积 基片负偏压

作者: 俞世吉

作者单位: 中国科学院电子学研究所(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: ”2001全国荷电粒子源粒子束学术会议

会议地点: 海口

会议语种:中文

页码: 312-315

在线出版日期: 2001-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）