叠加式直流脉冲偏压电源在离子镀设备中的应用
电弧离子镀(Arc Ion Plating,简称AIP)作为制备各种硬质膜与装饰膜的主流技术,在近十年获得了长足的发展.远离平衡态过程的离子镀低温沉积技术亦日趋成熟.而要实现当代先进电弧离子镀低温沉积技术的关键是要利用先进的叠加式直流脉冲偏压电源来替代原来的直流DC偏压.为此,我们开发了一套中频叠加式直流脉冲偏压电源,该电源采用大功率IGBT开关模块及最新开关电源技术,具有性能稳定、可靠性高、抗干扰能力强、负载匹配性能好等特点,能方便实现电弧离子镀低温沉积工艺及各种复合工艺.本文将详细地就电弧离子镀中运用该电源的优点及该电源在设计及研制过程中所碰到的一些问题进行探讨.
电弧离子镀 低温沉积技术 直流脉冲 偏压电源 电源设计
陈庆川 霍岩锋 曾旭初 刘平 冯铁民 童洪辉
核工业西南物理研究院 (中港合资)成都普斯特电气有限责任公司
国内会议
海口
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349-353
2001-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）