硅基二氧化硅厚膜材料的快速生长

摘要：

本文采用火焰水解法(FHD)在Si片上快速淀积SiO<,2>厚膜材料,材料膜厚达到40μm以上,生长速率达8μm/分钟.然后将该材料分别在真空中/空气气氛中高温致密化处理,获得了各种形态的二氧化硅厚膜材料,包括平整度好、光滑透明的玻璃态SiO<,2>厚膜材料.并利用XRD、SEM、电子显微镜等仪器对SiO<,2>膜的表面和膜厚进行了测试分析.

关键词： 火焰水解法 二氧化硅原膜材料 玻璃态 波分复用技术 列阵波导光栅

作者: 吴远大 邢华 郑伟 刘国范 张玉书

作者单位: 吉林大学电子系光电子国家重点实验室(长春市)

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国第十次光纤通信暨第十一届集成光学学术会议

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 703-707

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）