相移光纤光栅的两种制作方法的比较研究
制作相移光纤光栅的方法有许多种,但用的最多的还是两次曝光法和遮挡法.本文通过分析两种方法所产生的相移的物理机制,发现在我们对光纤的反射率(或者光纤光栅的调制深度)有一定要求的情况下,由于用两次曝光法主要是通过调节相移区的光致折射率Δn<,2>的变化来得到我们所需要的相移量,而遮挡法主要是通过调整相移区的长度来得到我们所需要的相移量,因而两次曝光法比遮挡法更容易控制一些.
光纤光栅 相移 折射率调制深度 相移区长度 两次曝光法 遮挡法
范薇 李学春 陈柏 陈兰荣 林尊琪
高功率激光物理国家实验室中科院上海光机所
国内会议
上海
中文
665-667
2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）